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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆研制厂座落华中省份,主要生育89英寸半导体器件晶圆,单日废水处理方法排放出物量约800吨。是由于生育历程中运行不少盐酸实现晶圆蚀刻,会造成废水处理方法中氟化物含量可以达到200-300mg/L,远超发展中国家排放出物标准(10mg/L下面)。 生产废水有效成分及由来 生活污水大部分来5个节点: 晶圆蚀刻生产工艺 :含母液值氟化物(HF)、硝酸铵及一些巨资属 药剂学自动化机械镜面抛光(CMP)废水处理 :含nm级硅粉末、有机酸络合剂 机器家电清洗废气 :含异丙醇、挥发酚等设计物 进行处理技艺程序流程 选择"有机化学乳浊液+水泥混凝土乳浊液+角度滤出"四级解决系统的: 三级加工处理 :加药氯化钙和氢氧化的钙,变成氟化钙水解,氟化物祛除率达85% 三级整理 :放入PAC(配位聚铝)和PAM(聚丙烯塑料酰胺),清除氢氧化铁态严重空气污染物 三级职业资格证书治疗 :完成多媒质油烟净化器器和活性氧炭吸,喷水氟化物盐浓度平稳在8mg/L以內 要点机械还包括:pH系统性自动调整系统性、斜管积淀池、板框厢式压滤机(活性污泥脱水怎么办)。 终极特效 创业项目电脑运行几年数据监测库数据库界面显示: 氟化物平均的氨水浓度:7.2mg/L(不超过地方基准) COD除去率:92% 污水水分含量率:≤65% 年收售氟化钙副產品约150吨,保持市场化再生利用

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